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    他的理论听起来很简单，就是利用水会影响光的折射率这一高中知识，在透镜和硅片之间加一层水，这样原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的瓶颈，降低到了132nm吗？

    随后，林本健带着他的沉浸式光刻方案前往米国、岛国、德国等地，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。

    在这些巨头门看来，这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要担心污染，如果在这种“替代方案”花费精力，耽误了光源的研究，就有可能被对手反超。

    因为林本健的这个想法太过简单或者说太过理想化，而且等于否定了其它巨头正在走的技术路线，遭到了各大半导体巨头的集体拒绝，而且一度给台积电施压制止林本健到处乱窜搅局。

    当时在光刻机领域市场份额较小的荷兰厂家阿斯麦知道这个事情后，决定赌一把，因为这时候在市场里本来也无法和尼康等巨头竞争，他们押注沉浸式技术有可能实现以小博大。

    于是林本健和阿斯麦双方一拍即合，双方合作仅用一年多的时间，也就是在2004年，阿斯麦就做出了第一台样机。

    而林本健随后又说服了台积电使用这个方案，并完成了产品生产，让台积电在芯片制程技术上一举追上了之前遥遥领先的巨头英特尔。

    台积电成功批量生产证明了浸入式技术的工艺可能性，而且浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，随后英特尔、ibm等公司纷纷决定跟进，购买阿斯麦的光刻机。

    而尼康虽然随后也宣布自己的157nm产品样机完成，但是因为整个的技术并不是非常成熟，良品率还无法保证，没有人愿意购买它的产品。

    随后，发现市场风向不对，尼康被迫将之前的研发成果浪费，开始做浸入式光刻机。

    但此时，尼康却是已经落后于市场了，正所谓一步落后步步落后，尼康至此开始被阿斯麦甩开。

    而阿斯麦与台积电也借此机会，开始得到迅猛发展，最后双双成为了行业巨头。

    后来阿斯麦继续成长，也进入了euv光科领域。

    林本健因为浸入式技术的运用在半导体行业名声大噪，也获得了极高的赞誉和荣誉。

    不过此时的林本健还没有到这个地步，他此时只是以胆大思路新奇而出名，在台积电的地位也并不是那么高。

    所以这个阶段，说服林本健这个在后世半导体行业极有分量的人从台积电跳槽，还是有可能的。

    前往明珠的飞机上，林晓朝张京问道：“张博，林博士是两天后来明珠？”
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